檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "Choung-Lii Chao".ecommittee (精準) and ckeyword.raw="化學機械平坦化"
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在化學機械平坦化 (Chemical Mechanical Polishing/Planarization, CMP)的製程當中,鑽石修整製通常用來修整拋光墊表面形貌以及維持工作能力,以確保製程中的…
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本研究主要為結合超臨界微細發泡射出成形技術(Microcellular Injection Molding, MIM)與化學機械平坦化製程(Chemical Mechanical Planariza…
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在化學機械平坦化製程中,化學拋光液與晶圓移除之殘碎會導致拋光墊表面產生鈍化的情況,因此透過拋光墊修整將拋光墊表面已鈍化表面移除,維持穩定的晶圓移除率。本研究將探討修整力量下的拋光墊修整移除率與表面形…